Samsung, yaptığı açıklamayla, yeni EUV tekniği ile hazırladığı bellek sayesinde üretim atılımı yaptığını duyurdu. Şirket, daha gelişmiş RAM üretme işlemine geçmek üzere bir engeli kaldırdıklarını belirtti.
Samsung: EUV ile üretilen ilk bellek hazır
Güney Kore merkezli üretici, silikonu aşındırmak için lazerler ve ışığa duyarlı kimyasallar kullanan aşırı ultraviyole litografi (EUV litografi) tekniğini kullanmaya başladı. Yapılan duyuruya göre, bu teknikle hazırlanan ilk bellek olarak bilinen 16-gigabit LPDDR5 mobil RAM yongalarının seri üretimi başladı.
Üretimdeki bu atılımın, Samsung’a rakiplerine karşı bir üstünlük sağlamanın yanı sıra, RAM’in ölçeklendirilmesinde “büyük bir gelişimsel engeli” ortadan kaldırdığı bildiriliyor. Bu engelin ortadan kalkması, bellek sektörünün büyümesi için çok daha fazla alan sunabilir.
Peki ultraviyole litografi, performans olarak gözle görülür bir fayda sağlıyor mu? Evet. 6.4 Gbps’lik bant genişliği, daha önce görülen 12 gigabitlik yongalardan yaklaşık yüzde 16 daha hızlı. Yine 16 GB’lık bellekteki yonga paketi de yaklaşık yüzde 30 daha ince. Bu sayede daha ince telefonlar üretilebileceği gibi, pil veya kamera gibi bileşenler için de cihaz içinde ekstra alan yaratabilir.
Samsung, bu yeni belleğin amiral gemisi sınıfı akıllı telefonlar için ideal olduğunu düşünüyor. Belleklerin kullanıldığı telefonlarda eşzamanlı çalıştırılan uygulamalar ve daha zorlu görevler mümkün olabilir. Bununla birlikte, Samsung, LPDDR5 bellekleri araç içi teknolojilere de taşımayı umuyor. Böylece araç içi bilgi-eğlence sistemlerinin daha hızlı çalışması ve işlem kapasitesinin artması mümkün olabilir.
EUV (Aşırı Ultraviyole) Litografi nedir, bellek üretimi için ne anlama geliyor?
Aşırı ultraviyole litografi (EUV litografi veya EUVL olarak da bilinir), yaklaşık 13,5 nm civarında ve kabaca %2 FWHM bant genişliğini kapsayan bir dizi aşırı ultraviyole (EUV) dalga boyunu kullanan bir litografi teknolojisidir.
Günümüzle karşılaştırırsak, kullanılan en gelişmiş sürecine 193 nm daldırma litografi denir. Adından da anlaşılacağı gibi, dalga boyu 193 nm olan ışık, fotomask adı verilen desenli bir yüzeyden parlar. Bu işlem, kalıbı sudan silikon gofret üzerine döker, burada ışığa duyarlı bir kimyasal ile sabitlenir ve ardından gofret üzerine oyulur.
Bu işlem bellek yongalarını üretmede kullanılır ve EUV litografi ile tıpkı işlemcilerde nanometre düşüşünde olduğu gibi daha hızlı ve daha ufak yongalar üretilebilir.
Samsung, EUV araçlarını 2018’in ikinci yarısında kullanmaya başladı.Rakipleri GlobalFoundries, Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. (TSMC) ve Intel ise bir iki çeyrek içinde bu sisteme geçtiler. Bu da, yakında bu teknikle üretilen belleklerin yaygınlaşacağını işaret ediyor.
